Veränderung des Nasolabialwinkels von Entspannung zu Lächeln in Relation zu kephalometrischen Parametern

Ziel: Der Nasolabialwinkel (NLW) spielt eine wichtige Rolle bei der Analyse des Profils und Lächelns eines Patienten. Ziel dieser Studie war es, die Veränderung des NLW beim Lächeln zu untersuchen und mit anderen fotografischen und kephalometrischen Parametern zu korrelieren. Methode: Es wurden 50 junge Erwachsene im Alter von 20 bis 30 Jahren aufgenommen, die zur kieferorthopädischen Korrektur der Oberkieferposition in eine private Praxis überwiesen worden waren. Die Untersuchung umfasste Winkelmessungen des NLW und seiner Bestandteile sowie Veränderungen der vertikalen Position der Nasenspitze an Profilfotografien, die im entspannten Zustand und beim Lächeln aufgenommen worden waren, während weitere Parameter an Fernröntgenseitenaufnahmen bei natürlicher Kopfhaltung gemessen wurden. Anschließend wurden die NLW-Veränderungen mit den kephalometrischen Parametern korreliert, um mögliche Zusammenhänge zu erkennen. Ergebnisse: Der NLW und sein oberer Teilwinkel wurden beim Lächeln kleiner (durchschnittlich 5,42° bzw. 0,77°). Der untere Teilwinkel des NLW nahm dagegen zu (durchschnittlich 3,97°). Die Nasenspitze sank vom entspannten Zustand zum Lächeln signifikant ab (durchschnittlich 1,6 mm, p = 0,002). Signifikante Korrelationen fanden sich zwischen der Veränderung des NLW und dem weichgewebigen Oberkieferüberstand sowie zwischen der Veränderung des unteren Anteils des NLW und der Oberlippenkurvatur. Schlussfolgerung: Die Verringerung des NLW beim Lächeln ergibt sich in erster Linie aus den Eigenschaften des Weichgewebes der Nasolabialregion und hängt nicht von dentalen Parametern ab, die der Kieferorthopäde steuern kann. Patienten sollten deshalb zu Beginn einer kieferorthopädischen Behandlung auf diesen Umstand hingewiesen werden.